Oportunidades Públicas

Fecha de Creación	Descripción	Mentor(es)	Acciones
01/09/2023	Application of a reactive plasma for the manufacture of micro-devices: solar cells and transistors This undergraduate research project is centered around the application of Reactive Ion Etching (RIE) plasma technology, a highly specialized and controlled form of plasma, for the fabrication of micro-devices, with a primary focus on solar cells and transistors. RIE is known for its precision in material removal and modification at the micro and nanoscale, making it a crucial tool in advanced semiconductor manufacturing. Keywords: RIE Plasma micro-devices solar cells Transistors Prerequisites: FIS1533 Available vacancies: 1/2 Class Code Initials: ING This opportunity uses a Nota 1-7 evaluation method and is worth 10 credits Applicación de un plasma reactivo para la fabricación de micro-dispositivos: celdas solares y transistores Este proyecto de investigación de pregrado se centra en la aplicación de la tecnología de plasma de grabado de iones reactivos (RIE), una forma de plasma altamente especializada y controlada, para la fabricación de microdispositivos, con un enfoque principal en células solares y transistores. RIE es conocido por su precisión en la eliminación y modificación de materiales a micro y nanoescala, lo que lo convierte en una herramienta crucial en la fabricación avanzada de semiconductores Keywords: RIE Plasma micro-devices solar cells Transistors Prerrequisitos: FIS1533 Vacantes disponibles: 1/2 Siglas iniciales: ING Tiene un método de evaluación Nota 1-7, con 10 créditos	Loik Herve Patrick Gence	Ver